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台积电明年有望批量生产28nm工艺设备

2010-12-08来源:维库电子开发网1029

       昨日,据台积电透露,其28nm工艺设备的制造就绪成熟度在经过调整之后已达90%以上,将于2011年如期投入批量生产。

 

       台积电28nm工艺设备主要安置在位于新竹工业园内的Fab 12晶圆厂,其成熟度在2009年第四季度还不到50%,如今业已超过90%,从而为量产铺平了道路。台积电解释说,半导体工艺越先进,初期的投产成熟度就越低,也就需要更多调整,比如90nm工艺设备的成熟度从一开始就有几乎100%,基本不用调整。

 

       台积电28nm工艺的主要客户有Altera、AMD、NVIDIA、Qualcomm、Xilinx,而且已经成功流片了多达71款IC产品。AMD/NVIDIA的下一代GPU核心、AMD的第二代低功耗版FusiON APU融合处理器都会外包给台积电28nm。

 

       台积电表示,等到2011年年底的时候,28nm工艺的产能将得到充分利用。

 

       据了解,台积电同时也在敦促设备与原料供应商加速20nm工艺的研发和部署。

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