美国，伊利诺伊州，班诺克本，2013年1月17日讯—由IPC与国家物理实验室(NPL)在IPC APEX展会® 上联合组建的IPC/NPL清洗与污染检测中心（展位号1549），将为关注有效清洗与污染检测工艺的观众，提供实用规范指导，同时提供可靠性问题解决方案。
　
     　除了解决方案和清洗专业建议，该中心的专家们还将举办一系列的主题演讲，内容涉及各种印制板的清洁议题，比如清洗设备安装要求、CAF失效与缺陷分析、PCB污染检测等。
　
　      NPL的Bob Willis以及清洗中心小组的其他成员将在微型研讨会上发表演讲，每个主题演讲时长20分钟。研讨会时间从2013年2月19日持续到21日，主题如下： 

2013年2月19日，星期二
• 12:00 pm – 清洗与污染失效：原因和解决方法(NPL)
• 2:00 pm – 小间隙元件的清洗 (Kyzen)
• 3:00 pm – 印制板组件的清洁度测试(Aqueous Technologies)
• 4:00 pm – 如何使用离子色谱法进行清洁度测试(Thermo Fisher Scientific)

2013年2月20日，星期三
• 12:00 pm – 清洗工艺性能评估 (Ascentech LLC - Gen3)
• 2:00 pm – 小间隙器件助焊剂残留的可靠性 (Indium Corporation)
• 3:00 pm – 封装组件的清洗(Zestron America)

2013年2月21日，星期四
• 11:00 am – CAF失效与缺陷分析(NPL)
• 12:00 pm --保形涂层附着力测试与失效(NPL)
• 1:00 pm – 清洗工艺兼容性的组件测试(NPL)
　　
      在清洗与污染检测中心登记的听众均可领取研讨会资料，包括演讲PPT。主题演讲之外，该中心还将举行现场测验，清洗书籍和测试板展示，清洗标准抽奖。
　
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