全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)20日宣布，在台积电、英特尔及三星三大晶圆厂力挺下，最先进的极紫外光(EUV)已连续四周平均妥善率逾八成，本季底前将完成三台最新的EUV系统出货。

  EUV堪称半导体设备发展以来最昂贵的设备，一台售价高达9000 万欧元(约新台币36亿元)，这项设备也是半导体产业向更先进制程发展最关键设备，因此发展进度，一直各界关注焦点。

  台积电共同执行长暨刘德音表示，台积电本季将会再增购一台EUV设备，不过台积电将会于5奈米制程才会导入生产制程，显示EUV的输出率，目前仍处于试验阶段。

  不过，ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)21日在公布第1季财报后，也针对EUV进展，公布重大突破。

  他强调，ASML的目标是在今年持续强化EUV系统的生产力和妥善率，并计画在今将机台生产力提升到每天曝光1，500片晶圆。

  他说，今年首季，ASML的EUV系统即展现每天曝光350片晶圆的实力。在妥善率方面，三个客户端的EUV系统都展现连续四周平均妥善率达80%以上的成果。

  至于首季已出货一台最新EUV微影系统NXE:3350B，计划第2季出货两台EUV系统。

  ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸润式机台NXT:1980，并出货6台，且快速将生产力拉升到每天4000片晶圆的水准。这套系统将应用在即将迈入试产的10奈米制程。

  ASML也于本季推出最新一代的整合式量测系统YieldStar 350E，提供晶圆更准确的量测结果来做后续分析。

  ASML昨天公布首季营收13.3亿欧元，毛利率42.6%，双双超标，本季预期在客户导入新的浸润式机台为10奈米量产做准，且扩增28奈米制程产能，乐观预期会有强劲成长。

    来源：经济日报